近刊検索 デルタ

201809

サイエンス&テクノロジー

プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

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著者略歴
タイトルヨミ
カナ:プラズマ CVD ニ オケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ ・ セイマク ジレイ
ローマ字:purazuma CVD ni okeru seimaku jouken no saitekika ni muketa hannou kikou no rikai to purosesu seigyo ・ seimaku jirei

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